Xenon tetrafluoride oxide

一氧四氟化氙是XeF₆不完全水解的产物，控制XeF6同水蒸气饱和过的空气反应可生成XeOF₄，也可将XeF₆封入石英管使其同SiO₂反应生成XeOF₄。但这两种方法都有可能生成XeO₃,反应进程不易掌握，下述制法是获得纯净XeOF₄的简易方法。

制法制备一氧四氟化氙的反应方程式为：

NaNO₃+XeF₆→NaF+XeOF₄+FNO₂

反应中所用的NaNO₃预先在120℃的真空干燥箱中充分干燥，并研成细粉。反应在一10mL的不锈钢反应管中进行，该反应管上安装有不锈钢阀，可与真空系统相连接。在充满干燥氮气的手套箱中，将0.26g NaNO₃装入反应管中。在反应管接入真空系统之后，将其放入-196℃的冷浴中，通过真空管线将0.84gXeF₆加入其中。取下反应管使其升温至室温，然后放入70℃的烘箱中保持10h。再将其接入真空系统，并冷却到-196℃，在接入真空系统的管线中还要接入两个聚四氟乙烯的U形管冷阱，并分别冷却到-78℃和-196℃。使不锈钢反应管的温度慢慢升高至室温，则其中的挥发性产物经分步冷凝而得到分离。在-78℃的冷阱中是相当纯净的XeOF₄，以投入的NaNO₃计算产率可达82%。而在-196℃的冷阱中收集的是FNO₂，不锈钢反应管中的剩余物主要是NaF。