四(二甲胺基)鉿
四(二甲胺基)鉿名称
[ CAS 号 ]:
19782-68-4
[ 中文名 ]:
四(二甲胺基)铪(IV)
[ 英文名 ]:
Tetrakis(dimethylamido)hafnium
[英文别名 ]:
- MFCD01862473
四(二甲胺基)鉿物理化学性质
[ 密度 ]:
1.098 g/mL at 25 °C
[ 沸点 ]:
6.1ºC at 760 mmHg
[ 熔点 ]:
26-29ºC(lit.)
[ 分子式 ]:
C8H24HfN4
[ 分子量 ]:
354.79300
[ 闪点 ]:
109 °F
[ 精确质量 ]:
356.14700
[ PSA ]:
12.96000
[ LogP ]:
0.04920
[ 外观性状 ]:
crystal | colorless to pale yellow
[ 储存条件 ]:
室温,干燥
四(二甲胺基)鉿MSDS
四(二甲胺基)鉿安全信息
[ 符号 ]:
GHS02, GHS05
[ 信号词 ]:
Danger
[ 危害声明 ]:
H228-H261-H314
[ 补充危害声明 ]:
Reacts violently with water.
[ 警示性声明 ]:
P210-P231 + P232-P280-P305 + P351 + P338-P370 + P378-P402 + P404
[ 个人防护装备 ]:
Eyeshields;Faceshields;full-face particle respirator type N100 (US);Gloves;respirator cartridge type N100 (US);type P1 (EN143) respirator filter;type P3 (EN 143) respirator cartridges
[ 危害码 (欧洲) ]:
F: Flammable;C: Corrosive;
[ 风险声明 (欧洲) ]:
R11
[ 安全声明 (欧洲) ]:
6-26-36/37/39-43-45
[ 危险品运输编码 ]:
UN 3396 4
[ WGK德国 ]:
3
四(二甲胺基)鉿文献
Appl. Phys. Lett. 91 , 193503, (2007)
Surface morphology and crystallinity control in the atomic layer deposition (ALD) of hafnium and zirconium oxide thin films Hausmann DM, Gordon RG
J. Cryst. Growth 249 , 251-261, (2003)
The Savannah ALD System - An Excellent Tool for Atomic Layer Deposition Monsma D, Becker J
Material Matters 1(3) , 5, (2006)
推荐生产厂家/供应商:
公司名:上海化源世纪贸易有限公司
区域:上海市普陀区
价格:
联系人:徐乾明
产品详情:TDMAH:Hf(N(CH3)2)4
公司名:盘锦研峰科技有限公司
区域:盘锦市盘锦市双台子区
价格:
¥610.0/1g
联系人:王迎
产品详情:四(二甲氨基)铪(IV)
公司名:上海阿拉丁生化科技股份有限公司
区域:上海市浦东新区
价格:
¥10388.0/25g
¥需询单/1g
¥需询单/1g
¥需询单/1g
联系人:阿拉丁
产品详情:四(二甲胺基)铪(IV)
查看所有供应商请点击:
相关化合物
【四(二甲胺基)鉿】化源网提供四(二甲胺基)鉿CAS号19782-68-4,四(二甲胺基)鉿MSDS及其说明、性质、英文名、生产厂家、作用/用途、分子量、密度、沸点、熔点、结构式等。CAS号查询四(二甲胺基)鉿上化源网,专业又轻松。>>电脑版:四(二甲胺基)鉿
标题:四(二甲胺基)鉿_MSDS_密度_熔点_CAS号【19782-68-4】_化源网 地址:https://m.chemsrc.com/mip/cas/19782-68-4_129954.html