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氮化钛

氮化钛用途

【用途一】
可用作熔盐电解的电极和电触头等导电材料

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氮化钛名称

[ CAS 号 ]:
25583-20-4

[ 中文名 ]:
氮化钛

[ 英文名 ]:
Nitridotitanium

[中文别名 ]:

纳米氮化钛

[英文别名 ]:

Titanium nitride (TiN)
MFCD00049596
Titanium nitride
Nitridotitanium
titaniumylidyneamine
titanium mononitride
Titanium, nitrido-
EINECS 247-117-5

氮化钛物理化学性质

[ 密度 ]:
5.24 g/mL at 25 °C(lit.)

[ 沸点 ]:
0°C

[ 熔点 ]:
2930 °C(lit.)

[ 分子式 ]:
NTi

[ 分子量 ]:
61.874

[ 闪点 ]:
0°C

[ 精确质量 ]:
61.951019

[ PSA ]:
23.79000

[ LogP ]:
0.01508

[ 外观性状 ]:
结晶固体

[ 储存条件 ]:
室温

[ 稳定性 ]:
Stable. Incompatible with strong acids.

氮化钛MSDS

详细MSDS(安全技术说明书)

氮化钛安全信息

[ 个人防护装备 ]:
Eyeshields;Gloves;type N95 (US);type P1 (EN143) respirator filter

[ 危害码 (欧洲) ]:
O

[ 安全声明 (欧洲) ]:
S22-S24/25

[ 危险品运输编码 ]:
UN3178

[ WGK德国 ]:
3

[ 包装等级 ]:
III

[ 危险类别 ]:
4.1

[ 海关编码 ]:
2849909000

氮化钛上下游产品

氮化钛上游产品

氮化钛下游产品

氮化钛制备

1.将金属钛放入加热炉中，在氮气气流中，加热至1000～1400℃反应直接得到氮化钛。或者将二氧化钛和碳以一定比例充分混合，放入加热炉中，在氮气气流中加热至1250℃还原氮化制得氮化钛。采用气相沉积法，由四氯化钛、氮气、氢气混合气体可以得到氮化钛涂层。

2.往四氯化钛的蒸发器中通入H2和N2的混合气体，并在该气流中将钨丝线圈通电加热，即有氮化钛结晶析出(用内径50mm的透明石英管为反应管)。实验证明当氮气和氢气浓度相等，四氯化钛浓度为0.3%，钨丝温度在1300～1500℃时氮化钛的析出速度最大。

3.将四氯化钛和氮气的混合气体与氨气和氢气的混合气体加热到700℃以上使它们反应。在反应出口处安装一烧瓶来收集产物。产物中的副产物氯化铵在惰性气流中于350℃加热十几分钟即可除去，进而得到黑色氮化钛粉末。

4.直接合成法　将金属钛放入加热炉中，在氮气气流中，加热至1000～1400℃直接合成得氮化钛。

5.二氧化钛还原法　将二氧化钛和炭按比例充分混合，放入加热炉中，在氮气气流中加热至1250℃还原氮化制得氮化钛。粉碎得微细产品。也可用四氯化钛和甲烷、氮气、氢气氮化制得氮化钛。

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氮化钛海关

[ 海关编码 ]: 2849909000

氮化钛文献

Effect of surface treatment on bond strength of Ti-10Ta-10Nb to low-fusing porcelain.

J. Prosthet. Dent. 109(2) , 95-105, (2013)

Ti-10Ta-10Nb alloy is a promising alloy for metal ceramic crowns because of its good corrosion resistance and low cytotoxicity. However, more information is needed on the bond strength between this al...

Electrically conductive and mechanically elastic titanium nitride ceramic microsprings.

J. Nanosci. Nanotechnol. 14(6) , 4292-6, (2014)

The structural and functional characterizations of titanium nitride (TiN) advanced ceramic microsprings (CMSs), with a coil diameter of several micrometers and synthesized by chemical vapor deposition...

Characteristic corrosion resistance of nanocrystalline TiN films prepared by high density plasma reactive magnetron sputtering.

J. Nanosci. Nanotechnol. 13(7) , 4601-7, (2013)

Nanocytalline TiN films were deposited on non-alkali glass and Al substrates by reactive DC magnetron sputtering (DCMS) with an electromagnetic field system (EMF). The microstructure and corrosion res...

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