三明2吨电子厂半导体纯水设备工艺
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更新时间： 2025-07-29 17:46:04
CAS号：3724-89-8
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￥150000.0/200kg
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三明2 吨电子厂半导体纯水设备的工艺通常较为复杂，需要经过多个步骤来确保水质达到半导体生产的高要求。以下是一般的工艺流程：
一、预处理阶段
原水增压
原水首入原水箱，通过原水泵增压，为后续处理提供足够的压力。
多介质过滤器
经过增压后的原水进入多介质过滤器，滤料通常包括石英砂、无烟煤等，主要去除水中的悬浮物、泥沙、颗粒杂质等较大颗粒物质，降低水的浊度，保护后续设备。
活性炭过滤器
接着水流通过活性炭过滤器，活性炭具有强大的吸附能力，能吸附水中的余氯、有机物、部分重金属离子等，改善水的口感和气味，同时进一步去除水中的微小颗粒杂质。
软化器
若原水硬度较高，需要经过软化器进行离子交换处理，去除水中的钙、镁离子，防止后续反渗透膜结垢，提高反渗透装置的运行效率和寿命。
二、核心处理阶段
反渗透装置
经过预处理的水进入反渗透装置（RO 装置）。在压力作用下，水分子透过反渗透膜，而大部分溶解性盐类、有机物、微生物、细菌等被截留，产水电导率可达到 10μS/cm 以下。反渗透的回收率一般在 60%-75%之间。
二级反渗透装置（可选）
对于水质要求更高的半导体生产，可能还需要进行二级反渗透处理。二级反渗透进一步去除水中的残留盐分和杂质，使产水电导率进一步降低到 5μS/cm 以下，甚至更低，以满足半导体工艺对超纯水的高纯度要求。二级反渗透的回收率一般在 70%-85%之间。
三、后处理阶段
脱气塔
从反渗透装置出来的纯水可能含有一定量的二氧化碳气体，通过脱气塔可以去除水中的二氧化碳，降低水的电导率。
EDI 装置（连续电去离子装置）
EDI 装置是利用混合离子交换树脂吸附给水中的阴阳离子，同时在直流电压的作用下，通过树脂和水的界面进行相对应离子的交换、迁移，使纯水更加纯净，电阻率达到 16MΩ·cm 以上，满足半导体生产过程中对超纯水的高电阻率要求。
紫外线杀菌器
采用紫外线杀菌，破坏水中微生物的 DNA 结构，杀灭水中的细菌、病毒等微生物，确保水质的微生物指标合格。
终端过滤器
在纯水出水前设置终端过滤器，通常为孔径较小的微滤或超滤滤芯，进一步拦截水中可能残留的微小颗粒杂质，出水水质的颗粒物指标达标。
通过以上一系列的工艺步骤，2 吨电子厂半导体纯水设备能够制备出符合半导体生产要求的超纯水，为半导体芯片制造过程中的清洗、蚀刻、掺杂等关键环节提供的水资源，确保半导体产品的质量和性能。
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