碱性大粒径硅溶胶 30%含量二氧化硅胶体溶液陶瓷金属研磨抛光用

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更新时间： 2026-04-29 19:23:49

CAS号：14808-60-7

常用名： 石英砂

价格：
￥8.0/25kg

纯度： 30.0%

备货期： 1天

库存： 现货

其他详情（用途，包装）：
碱性大粒径硅溶胶是一种以纳米级二氧化硅颗粒为核心、表面覆盖硅醇基（-Si-OH）的碱性胶体溶液，其粒径通常大于20纳米，部分产品可达50-150纳米。
一、核心特性
稳定性提升
通过氢键网络和范德华力形成三维结构，储存期可达6个月以上（传统小粒径硅溶胶仅1-2个月）。例如，惠和永晟的SD-10050产品采用定制化改性技术，进一步延长了储存稳定性。
吸附性能优化
比表面积达80-150 m²/g，孔隙率更高，对重金属离子的吸附容量提升30%-50%。在废水处理中，大粒径硅溶胶可有效去除悬浮物、胶体粒子及重金属离子。
机械性能突破
作为化学机械抛光（CMP）研磨料时，划痕密度降低至 15%。
硅粉水解法：反应温度需>90℃，易产生次生粒子（粒径>50nm占比>20%）。
新型制备技术
多级淤浆反应器法：利用硅粉水解产生的氢气鼓泡搅拌，通过级联反应实现粒径可控增长。例如，6级反应器制备的250nm硅溶胶，硅粉利用率达75%，能耗降低35%。
催化聚合工艺：添加KOH/NH₄OH复合催化剂（比例1:2），在pH 9-10条件下，反应速率提升至3-5nm/h，获得球形度>90%的颗粒。
三、应用领域
半导体制造
CMP抛光液：50-100nm颗粒用于3D NAND器件介质层抛光，去除率>1800Å/min，表面粗糙度 10%，难以满足纳米电子器件需求（如EUV光刻胶需CV<5%）。
规模化生产成本：多级反应器设备投资达传统工艺的3-5倍（以年产1000吨计，投资差额约2000万元）。
稳定性瓶颈：高浓度体系易发生凝胶，需进一步优化Zeta电位调控技术。
创新方向
微反应器技术：实现连续流制备，粒径分布CV值<5%（实验室阶段已验证）。
生物模板法：利用介孔二氧化硅（如SBA-15）为模板，合成核壳结构颗粒，机械强度提升40%。
智能响应型硅溶胶：引入温敏/pH响应基团，实现涂层自修复功能。

供应商信息：

公司名：东莞市惠和永晟纳米科技有限公司

认证状态： 未认证供应商

商品数： 2件

电话： +86-18664100786

地址： 广东省东莞市松山湖园区晨夕路1 号1栋1203室

地区： 广州市增城市

联系人： 何小姐

联系人电话： 18664100786

邮件：juling.he@wellchina.com.cn

网址：http://www.wellyschina.com

主要市场：广东省 / 东莞市 / 东坑镇

年贸易额：

外贸占销售比例：

主要合作伙伴：

公司介绍：
东莞市惠和永晟纳米科技有限公司是一家专注于硅溶胶、抛光液等纳米功能材料及相关产品研发、销售的高新技术企业，致力于向全球合作伙伴提供高品质硅溶胶及延伸产品的定制化解决方案。截至目前，东莞市惠和永晟纳米科技有限公司已开发碱性、酸性、中性、大粒径、小粒径、快干型、改性、高纯度等40多个硅溶胶品类产品作为日常产销，广泛应用于铸造、涂料、造纸、纺织、建筑、石油化工、化妆品等多个领域。此外还包含抛光材料等抛光用原料，用于半导体、光学器件等领域的加工制造。公司将继续秉承“创新、务实、诚信、共赢”的经营理念，为客户提供更优质的产品和服务。

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