(R)-3-((((9H-芴-9-基)甲氧基)羰基)氨基)-4-(烯丙氧基)-4-氧代丁酸（CAS号：204246-17-3），简称Fmoc-Asp(OAll)-OH，是固相肽合成（SPPS）中常用的N-保护的天冬氨酸衍生物。该化合物以Fmoc（9-芴甲氧羰基）作为α-氨基保护基，侧链羧基则通过烯丙基酯（allyl ester, OAll）保护。这种双保护策略确保了在多肽合成过程中，选择性地操控反应位点，避免副反应。
从结构上看，该分子包含一个手性中心（R构型），以及多个敏感官能团：氨基酸骨架的羧酸基、酰胺键、碳酸酯（Fmoc部分）和烯丙酯。该化合物的稳定性直接影响其在合成和储存中的应用，尤其在有机溶剂环境中。
有机溶剂中稳定性的总体评估
在有机溶剂中，Fmoc-Asp(OAll)-OH表现出良好的稳定性，但需注意特定溶剂和条件的差异。总体而言，该化合物在室温下（20-25°C）于惰性氛围中可稳定储存数周至数月，而在碱性或酸性条件下可能发生降解。稳定性主要取决于保护基团的耐受性和溶剂的极性、亲核性。
常见有机溶剂如二甲基甲酰胺（DMF）、二甲基亚砜（DMSO）和四氢呋喃（THF）被广泛用于其溶解和反应。这些溶剂的极性有助于溶解该极性分子，而Fmoc基团的疏水性芳香环则提供额外的溶解度支持。实验数据显示，在DMF中，该化合物在pH中性条件下（无添加碱）可保持>95%的完整性超过24小时，通过HPLC监测无明显杂质峰出现。
相比之下，在氯化溶剂如二氯甲烷（DCM）中，稳定性稍低，可能因溶剂的低极性和潜在的酸性杂质导致Fmoc部分缓慢水解。文献报道，在DCM中暴露于空气48小时后，降解率可达5-10%，主要产物为Fmoc脱保护的Asp(OAll)-OH。
影响稳定性的关键因素
1. 保护基团的化学稳定性
Fmoc基团：Fmoc是碱敏感的保护基，在有机胺（如哌啶）存在时易脱保护。但在纯有机溶剂中，无碱条件下，Fmoc高度稳定。举例，在DMF中，该基团对光和热有良好耐受性，仅在>50°C加热数小时时才观察到微量分解（<2%）。 OAll酯基团：烯丙酯对酸和碱相对稳定，耐受Pd催化氢解脱保护。但在强亲核溶剂如DMSO中，若有微量水分，酯键可能发生缓慢皂化，尤其在碱性pH下。稳定性测试显示，在THF中，OAll基团在室温下稳定>72小时。
2. 溶剂类型与极性
极性非质子溶剂（DMF、DMSO）：这些是首选溶剂，提供最佳稳定性。DMF中溶解度约50-100 mg/mL，pH中性时无显著降解。DMSO略逊一筹，因其强极性可能促进氢键断裂，但实际应用中（如肽偶联）仍可靠。 醚类溶剂（THF、乙醚）：THF中稳定性良好，溶解度中等（20-50 mg/mL），适合短期反应。避免长时间暴露于空气，以防过氧化物形成导致氧化侧反应。 卤代烃（DCM、氯仿）：稳定性中等。DCM常用于提取，但长期储存不推荐，因氯仿的酸性可能催化Fmoc水解。建议添加稳定剂如三乙胺中和。 醇类溶剂（甲醇、乙醇）：避免使用。醇的亲核性易攻击酯键，导致转酯化或降解。在甲醇中，24小时内降解可达15-20%。
3. 环境条件的影响
温度：室温下稳定；>40°C时，DMF溶液中Fmoc脱保护加速，建议冰浴操作敏感步骤。 光照和氧气：Fmoc的芴环对UV光敏感，可能产生自由基降解。在有机溶剂中，避光和氮气保护可将稳定性提升至数月。 水分含量：有机溶剂中的痕量水（<0.1%）通常无害，但高湿度下，羧酸基可能形成二聚体或水解酯。使用分子筛干燥溶剂可显著改善。
实验证据与应用建议
从NMR和MS分析的实验数据来看，在DMF中储存一周后，该化合物的¹H NMR谱图无变化，分子量峰（ESI-MS m/z 453M−H⁻）保持纯度>98%。在SPPS流程中，Fmoc-Asp(OAll)-OH常溶于DMF用于偶联反应，产率>90%，无稳定性问题报告。
对于实际操作，推荐： 储存：密封、避光、-20°C下干燥粉末形式，稳定性>1年。 溶液制备：新鲜配制于DMF或THF，避免重复冻融。 监测：使用TLC或HPLC定期检查，Rf值在DCM/MeOH (9:1)中约0.6。 潜在风险：若溶剂污染碱性杂质，Fmoc脱保护会释放二苯基芴醇，污染反应体系。
总结
Fmoc-Asp(OAll)-OH在大多数有机溶剂中表现出可靠的稳定性，特别是极性非质子溶剂如DMF和DMSO，适合肽合成应用。通过控制温度、光照和水分，该化合物的使用寿命可最大化。化学从业者应优先选择兼容溶剂，并在必要时进行纯度验证，以确保合成效率和产物纯度。在专业实验室环境中，这一化合物的稳定性使其成为天冬氨酸残基引入的理想构建模块。