| 常用名 | 半胱胺S-磷酸盐 钠盐 | CAS号 | 3724-89-8 |
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| 价格 | ¥150000.0/200kg | 纯度 | 99.0% |
| 备货期 | 需询单 | 库存 | 现货 |
| 产品网页 | http://www.zgbrhb.com | ||
| 产品详情(用途,包装等)
三明2 吨电子厂半导体纯水设备的工艺通常较为复杂,需要经过多个步骤来确保水质达到半导体生产的高要求。以下是一般的工艺流程: 一、预处理阶段 原水增压 原水首入原水箱,通过原水泵增压,为后续处理提供足够的压力。 多介质过滤器 经过增压后的原水进入多介质过滤器,滤料通常包括石英砂、无烟煤等,主要去除水中的悬浮物、泥沙、颗粒杂质等较大颗粒物质,降低水的浊度,保护后续设备。 活性炭过滤器 接着水流通过活性炭过滤器,活性炭具有强大的吸附能力,能吸附水中的余氯、有机物、部分重金属离子等,改善水的口感和气味,同时进一步去除水中的微小颗粒杂质。 软化器 若原水硬度较高,需要经过软化器进行离子交换处理,去除水中的钙、镁离子,防止后续反渗透膜结垢,提高反渗透装置的运行效率和寿命。 二、核心处理阶段
反渗透装置 经过预处理的水进入反渗透装置(RO 装置)。在压力作用下,水分子透过反渗透膜,而大部分溶解性盐类、有机物、微生物、细菌等被截留,产水电导率可达到 10μS/cm 以下。反渗透的回收率一般在 60%-75%之间。 二级反渗透装置(可选) 对于水质要求更高的半导体生产,可能还需要进行二级反渗透处理。二级反渗透进一步去除水中的残留盐分和杂质,使产水电导率进一步降低到 5μS/cm 以下,甚至更低,以满足半导体工艺对超纯水的高纯度要求。二级反渗透的回收率一般在 70%-85%之间。 三、后处理阶段 脱气塔 从反渗透装置出来的纯水可能含有一定量的二氧化碳气体,通过脱气塔可以去除水中的二氧化碳,降低水的电导率。 EDI 装置(连续电去离子装置) EDI 装置是利用混合离子交换树脂吸附给水中的阴阳离子,同时在直流电压的作用下,通过树脂和水的界面进行相对应离子的交换、迁移,使纯水更加纯净,电阻率达到 16MΩ·cm 以上,满足半导体生产过程中对超纯水的高电阻率要求。 紫外线杀菌器 采用紫外线杀菌,破坏水中微生物的 DNA 结构,杀灭水中的细菌、病毒等微生物,确保水质的微生物指标合格。 终端过滤器 在纯水出水前设置终端过滤器,通常为孔径较小的微滤或超滤滤芯,进一步拦截水中可能残留的微小颗粒杂质,出水水质的颗粒物指标达标。 通过以上一系列的工艺步骤,2 吨电子厂半导体纯水设备能够制备出符合半导体生产要求的超纯水,为半导体芯片制造过程中的清洗、蚀刻、掺杂等关键环节提供的水资源,确保半导体产品的质量和性能。 更多
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