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三明2吨电子厂半导体纯水设备工艺

更新时间:2025-07-29 17:46:04

常用名 半胱胺S-磷酸盐 钠盐 CAS号 3724-89-8
价格 ¥150000.0/200kg 纯度 99.0%
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产品网页 http://www.zgbrhb.com
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三明2 吨电子厂半导体纯水设备的工艺通常较为复杂,需要经过多个步骤来确保水质达到半导体生产的高要求。以下是一般的工艺流程:

一、预处理阶段
原水增压

原水首入原水箱,通过原水泵增压,为后续处理提供足够的压力。
多介质过滤器

经过增压后的原水进入多介质过滤器,滤料通常包括石英砂、无烟煤等,主要去除水中的悬浮物、泥沙、颗粒杂质等较大颗粒物质,降低水的浊度,保护后续设备。
活性炭过滤器

接着水流通过活性炭过滤器,活性炭具有强大的吸附能力,能吸附水中的余氯、有机物、部分重金属离子等,改善水的口感和气味,同时进一步去除水中的微小颗粒杂质。
软化器

若原水硬度较高,需要经过软化器进行离子交换处理,去除水中的钙、镁离子,防止后续反渗透膜结垢,提高反渗透装置的运行效率和寿命。
二、核心处理阶段
反渗透装置

经过预处理的水进入反渗透装置(RO 装置)。在压力作用下,水分子透过反渗透膜,而大部分溶解性盐类、有机物、微生物、细菌等被截留,产水电导率可达到 10μS/cm 以下。反渗透的回收率一般在 60%-75%之间。
二级反渗透装置(可选)

对于水质要求更高的半导体生产,可能还需要进行二级反渗透处理。二级反渗透进一步去除水中的残留盐分和杂质,使产水电导率进一步降低到 5μS/cm 以下,甚至更低,以满足半导体工艺对超纯水的高纯度要求。二级反渗透的回收率一般在 70%-85%之间。
三、后处理阶段
脱气塔

从反渗透装置出来的纯水可能含有一定量的二氧化碳气体,通过脱气塔可以去除水中的二氧化碳,降低水的电导率。
EDI 装置(连续电去离子装置)

EDI 装置是利用混合离子交换树脂吸附给水中的阴阳离子,同时在直流电压的作用下,通过树脂和水的界面进行相对应离子的交换、迁移,使纯水更加纯净,电阻率达到 16MΩ·cm 以上,满足半导体生产过程中对超纯水的高电阻率要求。
紫外线杀菌器

采用紫外线杀菌,破坏水中微生物的 DNA 结构,杀灭水中的细菌、病毒等微生物,确保水质的微生物指标合格。
终端过滤器

在纯水出水前设置终端过滤器,通常为孔径较小的微滤或超滤滤芯,进一步拦截水中可能残留的微小颗粒杂质,出水水质的颗粒物指标达标。
通过以上一系列的工艺步骤,2 吨电子厂半导体纯水设备能够制备出符合半导体生产要求的超纯水,为半导体芯片制造过程中的清洗、蚀刻、掺杂等关键环节提供的水资源,确保半导体产品的质量和性能。
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供应商信息

上海滨润环保科技有限公司

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上海滨润环保科技有限公司自创建以来,主要从事制药,生物,保健品,化妆品,工业,化工,医院等纯水,超纯水的成套设备,能提供从原水开始到合格纯水,纯化水,超纯水,注射用水(包括用水点)的全套工艺设计、设备制造、安装、调试及DQ、IQ、OQ文件资料等“交钥匙”工程。
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