硅化钽

• 常用名: 硅化钽
• 英文名: tantalum silicide
• CAS号: 12039-79-1
• 分子量: 237.11900
• 密度: 9.14
• 沸点: N/A
• 分子式: Si₂Ta
• 熔点: 2200ºC
• 闪点: N/A

硅化钽用途

用作精细陶瓷原料粉。

用于陶瓷工业以及电接触器和半导体设备。

硅化钽名称

• 中文名: 二硅化钽
• 英文名: Tantalum disilicide
• 中文别名: 二矽化钽

硅化钽物理化学性质

• 密度: 9.14
• 熔点: 2200ºC
• 分子式: Si₂Ta
• 分子量: 237.11900
• 精确质量: 236.90200
• InChIKey: MANYRMJQFFSZKJ-UHFFFAOYSA-N
• SMILES: [Si]=[Ta]=[Si]
• 外观性状: Powder
• 储存条件: 室温
• 水溶解性: Insoluble in water.
• 计算化学:

  1、 氢键供体数量：0

  2、 氢键受体数量：0

  3、 可旋转化学键数量：0

  4、 拓扑分子极性表面积（TPSA）：0

  5、 重原子数量：3

  6、 表面电荷：0

  7、 复杂度：18.3

  8、 同位素原子数量：0

  9、 确定原子立构中心数量： 0

  10、 不确定原子立构中心数量：0

  11、 确定化学键立构中心数量：0

  12、 不确定化学键立构中心数量：0

  13、 共价键单元数量：1

• 更多:

  1. 性状：为暗灰色立方结晶粉末

  2. 密度（g/mL,25℃）：9.14

  3. 相对蒸汽密度（g/mL,空气=1）：未确定

  4. 熔点（ºC）：2200

  5. 沸点（ºC,常压）：未确定

  6. 沸点（ºC，1mmHg）：未确定

  7. 折射率：未确定

  8. 闪点（ºC）：未确定

  9. 比旋光度（º）：未确定

  10. 自燃点或引燃温度（ºC）：未确定

  11. 蒸气压（20ºC）：未确定

  12. 饱和蒸气压（kPa,60ºC）：未确定

  13. 燃烧热（KJ/mol）：未确定

  14. 临界温度（ºC）：未确定

  15. 临界压力（KPa）：未确定

  16. 油水（辛醇/水）分配系数的对数值：未确定

  17. 爆炸上限（%,V/V）：未确定

  18. 爆炸下限（%,V/V）：未确定

  19. 溶解性：未确定

  20.晶格常数：a=0.4778nm，c=0.6558nm

  21.显微硬度（kg·mm-2）：1407;

  22.弹性模量（kg·K-1）：30230;

  23.导电率（Ω·cm-1）：1.23×10-5;

  24.比热容（J/(g·℃)）：0.33

硅化钽MSDS

硅化钽MSDS英文版

硅化钽安全信息

• 危害码 (欧洲): Xi
• 安全声明 (欧洲): S22
• WGK德国: 3

硅化钽制备

1.以金属钽和硅粉为原料，将金属钽和硅粉进行粉碎并混合均匀，再将其放入石墨炉内加热至1100～1500℃进行预反应，然后通入氢气，再升温至800℃进行反应，即得硅化钽。或者用氢化钙还原五氧化二钽得到氢化钽，再加热至1800℃得金属钽，然后加入硅粉合成得硅化钽。

2.将Si和Ta混合物先预热至350℃，然后升温至1480℃，加热反应。或令TaS2与SiHnX4-n在900℃下反应制得。

3.直接法　以金属钽和硅粉为原料制备硅化钽，反应式如下。
首先将金属钽和硅粉进行粉碎并混合均匀，再将其放入石墨炉内加热至
1100～1500℃进行预反应，然后通入氢气，再升温至1800.℃进行均化反应1h，即得硅化钽。

4.五氧化二钽还原法　首先用氢化钙还原五氧化二钽得到氢化钽，再加热至1800℃得金属钽，然后加入硅粉合成得硅化钽。

硅化钽英文别名

• bis(λ²-silanylidene)tantalum
• MFCD00049564
• EINECS 234-902-2