氯化钨(IV)

• 常用名: 氯化钨(IV)
• 英文名: TUNGSTEN TETRACHLORIDE
• CAS号: 13470-13-8
• 分子量: 325.65200
• 密度: 4.624 g/cm3
• 沸点: N/A
• 分子式: Cl₄W
• 熔点: N/A
• 闪点: N/A
• 符号: GHS05
• 信号词: Danger

氯化钨(IV)名称

• 中文名: 四氯化钨
• 英文名: tetrachlorotungsten

氯化钨(IV)物理化学性质

• 密度: 4.624 g/cm3
• 分子式: Cl₄W
• 分子量: 325.65200
• 精确质量: 323.82600
• LogP: 2.75800
• 外观性状: 黑色
• 储存条件: 室温
• 稳定性:

  其吸湿性不如五氯化钨强，但遇水则水解。即使加热也不熔融和升华，但若在真空下强烈，熔点温度时分解，水中分解。

• 分子结构:

  1、摩尔折射率：无可用的

  2、摩尔体积（cm³/mol）：无可用的

  3、等张比容（90.2K）：无可用的

  4、表面张力（dyne/cm）：无可用的

  5、介电常数：无可用的

  6、极化率（10^-24cm³）：无可用的

  7、单一同位素质量：323.826311 Da

  8、标称质量：324 Da

  9、平均质量：325.652 Da

• 计算化学:

  1.疏水参数计算参考值（XlogP）:无

  2.氢键供体数量:0

  3.氢键受体数量:0

  4.可旋转化学键数量:0

  5.互变异构体数量:无

  6.拓扑分子极性表面积0

  7.重原子数量:5

  8.表面电荷:0

  9.复杂度:19.1

  10.同位素原子数量:0

  11.确定原子立构中心数量:0

  12.不确定原子立构中心数量:0

  13.确定化学键立构中心数量:0

  14.不确定化学键立构中心数量:0

  15.共价键单元数量:1

• 更多:

  1. 性状：暗褐色的固体。

  2. 密度（g/mL,25/4℃）：4.62

  3. 相对蒸汽密度（g/mL,空气=1）：未确定

  4. 熔点（ºC）：未确定

  5. 沸点（ºC,常压）：未确定

  6. 沸点（ºC,5.2kPa）：未确定

  7. 折射率：未确定

  8. 闪点（ºC）：未确定

  9. 比旋光度（º）：未确定

  10. 自燃点或引燃温度（ºC）：不适用的

  11. 蒸气压（kPa,25ºC）：未确定

  12. 饱和蒸气压（kPa,60ºC）：未确定

  13. 燃烧热（KJ/mol）：未确定

  14. 临界温度（ºC）：未确定

  15. 临界压力（KPa）：未确定

  16. 油水（辛醇/水）分配系数的对数值：未确定

  17. 爆炸上限（%,V/V）：未确定

  18. 爆炸下限（%,V/V）：未确定

  19. 溶解性：未确定

氯化钨(IV)MSDS

氯化钨(IV)MSDS英文版

氯化钨(IV)安全信息

• 符号: GHS05
• 信号词: Danger
• 危害声明: H314
• 警示性声明: P280-P305 + P351 + P338-P310
• 个人防护装备: Eyeshields;Faceshields;full-face particle respirator type N100 (US);Gloves;respirator cartridge type N100 (US);type P1 (EN143) respirator filter;type P3 (EN 143) respirator cartridges
• 危害码 (欧洲): C: Corrosive;
• 风险声明 (欧洲): R34
• 安全声明 (欧洲): S26
• 危险品运输编码: UN 3260 8
• 包装等级: III

氯化钨(IV)制备

1.在充入惰性气体的干燥箱中，将5g六氯化钨和聚四氟乙烯制的搅拌棒一起，从图Ⅵ9所示的装置4处放入6中，随后，熔封支管4。用干冰冷却6处，同时打开聚四氟乙烯制的旋塞从2抽气。用减压蒸馏的方图四氯化钨的合成装置法，将精制脱水的四氯乙烯从外面引入6处达30mL。恢复常温后，抽真空并将6处浸入透明的油浴中，用500W的灯泡照射，在150℃下反应3天。此时，为安全起见，反应装置可围以防护屏。反应结束后冷却，然后将装置倒立，通过玻璃过滤器3滤出产生的沉淀。若再次加热1处，由于有机溶剂进行回流，使沉淀上附着的未反应的六氯化钨被萃取下来，萃取液成无色后，停止加热。接着从2处抽气，并打开聚四氟乙烯制的旋塞，通过减压蒸馏，将有机溶剂完全逐出。在充入惰性气体的干燥箱中，将6处切断，取出玻璃过滤器上的生成物。在该生成物中，含有由于副反应生成的五氯化钨等杂质，故将其置于硬质玻璃管中，若在二氧化碳气流中加热，则氯化钨中最易挥发的五氯化钨将首先升华，再升高温度时，六氯化钨和二氯化钨也挥发出来，仅目的产物四氯化钨不升华而最终存留下来。收率为95%。

图VI-9 四氯化钨的合成装置

2.在直径30mm的硼硅酸玻璃管中，加入20～25g六氯化钨和计算量的铝箔(使六氯化钨过量1～2g)。然后，将反应管抽真空，并将其封闭，反应管在475℃下保温，装有六氯化钨的一端则保持在225℃。约48小时后反应结束。反应期间，生成物四氯化钨可扩散至管的低温端，并凝结出粗糙的结晶状沉积物。为了除去过量的六氯化钨和生成的氯化铝，将含有结晶粉末的管端在225℃下加热，另一端保持室温。然后，在干燥箱中打开反应管，取出四氯化钨。

氯化钨(IV)英文别名

• Tungsten tetrachloride
• WCl4
• MFCD00012027