一氧化硅
一氧化硅用途
用作光学玻璃和半导体材料的制备
【用途二】
一氧化硅微粉末因极富有活性,可作为精细陶瓷合成原料,如氮化硅、碳化硅精细陶瓷粉末原料。
【用途三】
作为精细陶瓷原料具有重要价值。也可在真空中将其蒸发,涂在光学仪器用的金属反射镜上作保护膜。还可用于制造半导体材料。也用于光学玻璃。
一氧化硅名称
[ CAS 号 ]:
10097-28-6
[ 中文名 ]:
一氧化硅
[ 英文名 ]:
oxosilylene
[中文别名 ]:
[英文别名 ]:
- Silicon Monoxide SiO
- Monox
- silicon oxide powder
- Silylene,oxo
- MFCD00151536
- oxosilylene
- silylene, oxo-
- Silicon monoxide
- SILICON (II) OXIDE
- Dihydrido(oxonio)silicate(1-)
一氧化硅物理化学性质
[ 密度 ]:
2.13 g/mL at 25 °C(lit.)
[ 沸点 ]:
1880°C
[ 熔点 ]:
1870 °C
[ 分子式 ]:
OSi
[ 分子量 ]:
44.085
[ 闪点 ]:
1880°C
[ 精确质量 ]:
43.971840
[ 外观性状 ]:
棕色或黑色大块或粉末
[ 折射率 ]:
1.9800
[ 储存条件 ]:
室温
[ 稳定性 ]:
Stable.
一氧化硅MSDS
一氧化硅安全信息
[ 个人防护装备 ]:
dust mask type N95 (US);Eyeshields;Gloves
[ 危害码 (欧洲) ]:
Xi:Irritant;
[ 风险声明 (欧洲) ]:
R36/37/38
[ 安全声明 (欧洲) ]:
S26-S36
[ 危险品运输编码 ]:
NONH for all modes of transport
[ WGK德国 ]:
3
一氧化硅合成路线
一氧化硅上下游产品
一氧化硅上游产品
一氧化硅下游产品
一氧化硅制备
1.将SiO2含量为99.5%的二氧化硅粉末和煤沥青粉末混合,C/SiO2混合摩尔比为2.0,混合物经减压加热处理,其温度为1600℃,压力为1.013 kPa,经还原反应生成SiO蒸气,通入氩气,将SiO蒸气凝结输送,制成0.1 μm以下的一氧化硅粉末。
图XIV-10 一氧化硅的制备装置
其反应式:
2.图一氧化硅的制备装置如图所示,在反应管里放好氧化铝烧结块,用由两部分组成的镍制容器进行反应。在容器一侧的前端,放好微粉状硅粉和二氧化硅按1∶1摩尔比的混合物。把容器放到电炉里,在133.322×10-4Pa、1250~1300℃下加热4h,在镍管的低温部分出现冷凝物。这个反应是可逆反应,如果进一步降低压力,提高温度,平衡则向一氧化硅侧移动。反应生成物很容易从镍管中取出来,分离也很容易。剩余的棕色原料是结晶形硅,黄色黏稠状生成物是无定形二氧化硅,在低温部冷凝的黑棕色玻璃状物质是一氧化硅。
一氧化硅文献
Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 46(28) , 5435-9, (2007)
How to make the ionic Si-O bond more covalent and the Si-O-Si linkage a better acceptor for hydrogen bonding.
Inorg. Chem. 48(10) , 4384-93, (2009)
Variation of a bond angle can tune the reactivity of a chemical compound. To exemplify this concept, the nature of the siloxane linkage (Si-O-Si), the most abundant chemical bond in the earth's crust,...
Silicon oxide nanoparticles reveal the origin of silicate grains in circumstellar environments.Nano Lett. 6(6) , 1190-5, (2006)
A synergistic effort combining experiments in beams and first principles theoretical investigations is used to propose mechanisms that could lead to the formation of silicates and nanoparticles with s...
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