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六氯乙硅烷

六氯乙硅烷名称

[ CAS 号 ]:
13465-77-5

[ 中文名 ]:
六氯乙硅烷

[ 英文名 ]:
Hexachlorodisilane

[中文别名 ]:

[英文别名 ]:

六氯乙硅烷物理化学性质

[ 密度 ]:
1.6±0.1 g/cm3

[ 沸点 ]:
144.5±9.0 °C at 760 mmHg

[ 熔点 ]:
<0ºC

[ 分子式 ]:
Cl6Si2

[ 分子量 ]:
268.889

[ 闪点 ]:
78°C

[ 精确质量 ]:
265.766968

[ LogP ]:
8.55

[ 外观性状 ]:
无色液体

[ 蒸汽压 ]:
6.4±0.3 mmHg at 25°C

[ 折射率 ]:
1.489

[ 储存条件 ]:
below 5° C

[ 稳定性 ]:
Stable, but reacts violently with water. Moisture sensitive. May be shock sensitive. Incompatible with water, moisture, acids, strong bases, oxidizing agents, alcohols.

六氯乙硅烷MSDS

六氯乙硅烷安全信息

[ 符号 ]:

GHS05

[ 信号词 ]:
Danger

[ 危害声明 ]:
H314

[ 补充危害声明 ]:
Reacts violently with water.

[ 警示性声明 ]:
P280-P305 + P351 + P338-P310

[ 个人防护装备 ]:
Faceshields;full-face respirator (US);Gloves;Goggles;multi-purpose combination respirator cartridge (US);type ABEK (EN14387) respirator filter

[ 危害码 (欧洲) ]:
C

[ 风险声明 (欧洲) ]:
14-34

[ 安全声明 (欧洲) ]:
S26-S36/37/39-S45

[ 危险品运输编码 ]:
UN 2987 8/PG 2

[ WGK德国 ]:
3

[ 包装等级 ]:
II

[ 危险类别 ]:
8

六氯乙硅烷合成路线

六氯乙硅烷文献

Determination of porphyrin carbon isotopic composition using gas chromatography-isotope ratio monitoring mass spectrometry.

J. Chromatogr. A. 903(1) , 183-191, (2000)

Carbon isotopic compositions of aetio I occurring in the form of free-base, nickel, demetallation, dihydroxysilicon(IV) and bis(tert.-butyldimethylsiloxy)silicon(IV) [(tBDMSO)2Si(IV)] have shown that ...

Chemical vapor deposition of silicon films using hexachlorodisilane Taylor, R. C., Scott, B. A., Lin, S. T., LeGoues, F., & Tsang, J. C.

MRS Proceedings 77 , 709, (1986)

Hexachlorodisilane as a Precursor in the LPCVD of Silicon Dioxide and Silicon Oxynitride Films. Taylor, R. C., & Scott, B. A.

J. Electrochem. Soc. 136(8) , 2382-2386, (1989)


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