均苯四甲酸酐结构式
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常用名 | 均苯四甲酸酐 | 英文名 | PMDA |
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CAS号 | 89-32-7 | 分子量 | 218.119 | |
密度 | 1.9±0.1 g/cm3 | 沸点 | 398.6±15.0 °C at 760 mmHg | |
分子式 | C10H2O6 | 熔点 | 283-286 °C(lit.) | |
MSDS | 中文版 美版 | 闪点 | 183.5±20.4 °C | |
符号 |
GHS05, GHS08 |
信号词 | Danger |
均苯四甲酸酐用途用途1:用于制造聚酰亚胺树脂,后者用作耐高温电气绝缘漆的原料。亦用以制取环氧树脂固化剂和增塑剂、脲醛树脂稳定剂、酞菁蓝染料、缓蚀剂、瞬间粘结剂、电子摄影调色剂等。 用途2:均苯四甲酸二酐及其衍生物具有广泛的用途。PMDA主要用作环氧树脂固化剂、聚酰亚胺原料,聚酯树脂的交联产均苯型聚醚亚胺树脂,这是一种可在2600C连续长期使用的耐高温工程材料。 用途3:用于制造聚酰亚胺薄膜、聚酰亚胺树脂,粉末涂料消光剂,高级电气绝缘材料。 用途4:用于制造聚酰亚胺耐热工程塑料和绝缘薄膜的主要原料;可用作环氧树脂固化剂、稳定剂及染料等的合成原料。 用途5::于制聚酰亚胺树脂、耐高温电绝缘漆、PVC增塑剂、合成树脂交联剂和环氧树脂固化剂,也用于制酞菁蓝染料等。 |
中文名 | 均苯四甲酸二酐 |
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英文名 | 1,2,4,5-Benzenetetracarboxylic anhydride |
中文别名 | 苯-1,2,4,5-四羧酸二酐 | 1,2,4,5-苯四甲羧酸二酐 | 均苯四甲酸酐 | 1,2,4,5-苯四甲酸酐 |
英文别名 | 更多 |
密度 | 1.9±0.1 g/cm3 |
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沸点 | 398.6±15.0 °C at 760 mmHg |
熔点 | 283-286 °C(lit.) |
分子式 | C10H2O6 |
分子量 | 218.119 |
闪点 | 183.5±20.4 °C |
精确质量 | 217.985138 |
PSA | 94.56000 |
LogP | 0.98 |
外观性状 | 白色粉末 |
蒸汽压 | 0.0±0.9 mmHg at 25°C |
折射率 | 1.708 |
储存条件 | 本品应密封于阴凉干燥处避光保存。远离火种、热源、防晒、防潮。采用双层包装,内层用塑料薄膜,外层用硬纸板桶。 |
稳定性 | 当暴露于湿空气中时,水解成均苯四甲酸。有毒!操作人员应穿工作服,配戴防护眼镜和手套。 |
水溶解性 | decomposes |
分子结构 | 1、 摩尔折射率:45.11 2、 摩尔体积(cm3/mol):115.6 3、 等张比容(90.2K):360.8 4、 表面张力(dyne/cm):94.6 5、 极化率(10-24cm3):17.88 |
计算化学 | 1.疏水参数计算参考值(XlogP):0.7 2.氢键供体数量:0 3.氢键受体数量:6 4.可旋转化学键数量:0 5.互变异构体数量:无 6.拓扑分子极性表面积86.7 7.重原子数量:16 8.表面电荷:0 9.复杂度:349 10.同位素原子数量:0 11.确定原子立构中心数量:0 12.不确定原子立构中心数量:0 13.确定化学键立构中心数量:0 14.不确定化学键立构中心数量:0 15.共价键单元数量:1 |
更多 | 1. 性状:白色针状结晶或粉末。能升华 2. 密度(g/mL,20℃):1.680 3. 相对密度(20℃,4℃):1.69 4. 熔点(ºC) :289 5. 沸点(ºC,常压):380~400 6. 沸点(ºC,3.9997kPa):305~310 7. 晶相相标准燃烧热(焓)(kJ·mol-1):-3295.8 8. 晶相标准声称热(焓)( kJ·mol-1):-925.1 9. 比旋光度(º):未确定 10. 自燃点或引燃温度(ºC):未确定 11. 蒸气压(kPa,25ºC):未确定 12. 饱和蒸气压(kPa,60ºC):未确定 13. 燃烧热(KJ/mol):未确定 14. 临界温度(ºC):未确定 15. 临界压力(KPa):未确定 16. 油水(辛醇/水)分配系数的对数值:未确定 17. 爆炸上限(%,V/V):未确定 18. 爆炸下限(%,V/V):未确定 19. 溶解性:在室温下溶于二甲基甲酰胺(DMF)、二甲基亚砜,γ-丁内酯、N-甲基吡咯烷酮、丙酮、甲基乙基甲酮、甲基异丁基甲酮、乙酸乙酯,不溶于氯仿、乙醚、正己烷、苯。暴露在湿空气中水解变成均苯四甲酸。 |
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均苯四甲酸酐毒理学数据: 毒性分级 中毒。 急性毒性 口服- 大鼠 LD50: 2250 毫克/ 公斤; 口服- 小鼠 LD50:2400 毫克/ 公斤。 刺激皮肤和黏膜,可引起过敏及变态反应等障碍。 |
符号 |
GHS05, GHS08 |
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信号词 | Danger |
危害声明 | H317-H318-H334 |
警示性声明 | P261-P280-P284-P304 + P340-P305 + P351 + P338 + P310 |
个人防护装备 | dust mask type N95 (US);Eyeshields;Faceshields;Gloves |
危害码 (欧洲) | Xn:Harmful; |
风险声明 (欧洲) | R41;R42/43 |
安全声明 (欧洲) | S22-S24-S26-S37/39 |
危险品运输编码 | 1760.0 |
WGK德国 | 1 |
RTECS号 | DB9300000 |
危险类别 | 8.0 |
海关编码 | 2917399090 |
均苯四甲酸酐上游产品 10 | |
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均苯四甲酸酐下游产品 9 | |
可以有多种制法。采用的原料可以是二甲苯、三甲苯、四甲苯或蒽。氧化的方法有液相法和气相法等。1.均四甲苯气相氧化 此法特点是工艺简单,可省去脱水成酐工序,除空气外不用其他氧化剂(如硝酸、高锰酸、铬酸等),也不需液相所必需的催化剂分离工序,并可连续生产,易于实现自动化操作,是国外发展的主要方法。
所用的原料也可以从1,2,4-三甲苯出发,在催化剂存在下,与丙烯烷基化生成1,2,4-三甲基-5-丙基苯,再以气相空气催化氧化得到均苯四甲酸二酐。
2.由二甲苯(对二甲苯或间二甲苯)经氯甲基化、氧化、环化而得。工业品均苯四甲酸二酐为白色至淡黄绿色结晶,一级品熔点284-287℃,二级品熔点283.5-287℃。由1,2,4-三甲苯用氧化法生产时,每吨产品消耗1,2,4-三甲苯3000kg、丙烯1200kg。
3、一氧化碳法 以偏三甲苯和一氧化碳反应制得高纯度的中间体芳香醛2,4,5-三甲基苯甲醛,然后氧化得均苯四甲酸,最后经脱水生成PM-DA。该法采用羰基化新工艺,副反应少,产品纯度高,收率高,选择性强,对设备腐蚀性小,符合环保要求,并且使用一套装置可切换生产偏听偏苯三酸酐和PMDA两种产品,生产成本较低。
海关编码 | 2932190090 |
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中文概述 | 2932190090 其他结构上有非稠合呋喃环化合物. 增值税率:17.0% 退税率:9.0% 监管条件:无 最惠国关税:6.5% 普通关税:20.0% |
申报要素 | 品名, 成分含量, 用途 |
Summary | 2932190090 other compounds containing an unfused furan ring (whether or not hydrogenated) in the structure VAT:17.0% Tax rebate rate:9.0% Supervision conditions:none MFN tariff:6.5% General tariff:20.0% |
Covalent molecular assembly of oligoimide ultrathin films in supercritical and liquid solvent media.
Langmuir 21(17) , 7812-22, (2005) An ultrathin film of oligoimide has been fabricated on amine-modified substrates of silicon and quartz through alternate layer-by-layer (LBL) assembly of pyromellitic dianhydride (PMDA) and diaminodip... |
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Novel zwitterionic inorganic-organic hybrids: synthesis of hybrid adsorbents and their applications for Cu2+ removal.
J. Hazard. Mater. 186(2-3) , 1335-42, (2011) A series of zwitterionic hybrid adsorbents were prepared via the ring-opening polymerization of pyromellitic acid dianhydride (PMDA) and N-[3-(trimethoxysilyl)propyl] ethylene diamine (TMSPEDA), and a... |
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NTCDA-TTF first axial fusion: emergent panchromatic, NIR optical, multi-state redox and high optical contrast photooxidation.
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pyromelliticacidanhydride |
benzene-1,2,4,5-tetracarboxylic dianhydride |
Pyromellitic dianhydride |
pyromellithic dianhydride |
1,2,4,5-benzenetetracarboxylic dianhydride |
1H,3H-Furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone |
EINECS 201-898-9 |
BDFtetron |
Piromellitic dianhydride |
Pyromellitic dianhyd |
MFCD00005005 |
1H,3H-Benzo[1,2-c:4,5-c']difuran-1,3,5,7-tetrone |
Pyromellitic anhydride |
PMDA |